lab2:вах

Различия

Показаны различия между двумя версиями страницы.

Ссылка на это сравнение

Предыдущая версия справа и слева Предыдущая версия
Следующая версия 		Предыдущая версия
lab2:вах [2019/03/22 14:19]
root_s 		lab2:вах [2024/08/22 17:08] (текущий)
root
Строка 11: Строка 11:
 $I_{a}=f(U_{a}).$ Поскольку конкретный вид ВАХ зависит от величины $I_{a}=f(U_{a}).$ Поскольку конкретный вид ВАХ зависит от величины
 тока накала, то работа диода описывается семейством ВАХ $I_{a}=\left.f(U_{a})\right|_{I_{H}=const}.$ тока накала, то работа диода описывается семейством ВАХ $I_{a}=\left.f(U_{a})\right|_{I_{H}=const}.$
-{{:lab2:pic07.png?500 |}}+{{:lab2:21-6.png?500 |рис. 7}} 
 +/* {{:lab2:pic07.png?500 |}} */
 На рис. 7 изображено семейство и одиночная ВАХ диода. Режим отрицательного На рис. 7 изображено семейство и одиночная ВАХ диода. Режим отрицательного
 анодного напряжения (I) называется **режимом задерживающего анодного напряжения (I) называется **режимом задерживающего
Строка 17: Строка 18:
 зависимость тока от напряжения носит экспоненциальный характер зависимость тока от напряжения носит экспоненциальный характер
 $$ $$
-j_{K}=j_{em}\exp(\frac{eU_{a}}{kT}),\ \ \ j_{em}=AT^{2}\exp(-\frac{\varphi}{kT}),+j_{a}=j_{em}\exp(\frac{eU_{a}}{kT}),\ \ \ j_{em}=AT^{2}\exp(-\frac{\varphi}{kT}),
 $$ $$
 и определяется максвелловским распределением электронов по скоростям. и определяется максвелловским распределением электронов по скоростям.
Строка 23: Строка 24:
  
 **Режим "закона трех вторых"** (область II) используется **Режим "закона трех вторых"** (область II) используется
-в работе 2.2. Можно считать, что в этой области зависимость анодного+в работе 2.2. Можно считать, что в этой области зависимость плотности анодного
 тока от анодного напряжения описывается формулой  тока от анодного напряжения описывается формулой 
 $$ $$
-j_{K}=\frac{\sqrt{2}}{9\pi}\sqrt{\frac{e}{m}}\frac{U_{a}^{\frac{3}{2}}}{r_{a}r_{k}\beta^{2}}.+j_{a}=\frac{\sqrt{2}}{9\pi}\sqrt{\frac{e}{m}}\frac{U_{a}^{\frac{3}{2}}}{r^2_{a}\beta^{2}}.
 $$ $$
  
Строка 41: Строка 42:
 напряжения (от напряженности поля вблизи катода) описывается формулой напряжения (от напряженности поля вблизи катода) описывается формулой
 $$ $$
-j_{\text{дн}}=j_{\text{э}}\exp\frac{\sqrt{e^{3}E_{K}}}{kT}.+j_{\text{кн}}=j_{\text{э}}\exp\frac{\sqrt{e^{3}E_{к}}}{kT}.
 $$ $$
 Этот режим используется в лабораторной работе 2.1.  Этот режим используется в лабораторной работе 2.1. 
  
-Назад к теме [[режимы_работы_диода|Режимы работы диода]] или далее [[режимы_работы_диода|Режимы работы диода]]+Назад к теме [[режимы_работы_диода|Режимы работы диода]] или далее [[обработка_вах|Общие практические рекомендации по обработке ВАХ при выполнении работ]]