Различия
Показаны различия между двумя версиями страницы.
Следующая версия | Предыдущая версия | ||
lab2:вывод_соотношений_для_диода [2019/03/22 14:29] root_s создано |
lab2:вывод_соотношений_для_диода [2019/07/01 16:11] (текущий) root_s |
||
---|---|---|---|
Строка 1: | Строка 1: | ||
=====Вывод расчетных теоретических соотношений для диода с коаксиальной системой электродов===== | =====Вывод расчетных теоретических соотношений для диода с коаксиальной системой электродов===== | ||
- | Приведем вывод формул для тока вакуумного диода с коаксиальными электродами, | + | Приведем вывод формул для тока вакуумного диода с коаксиальными электродами, |
+ | {{ : | ||
где катод прямого накала расположен по оси цилиндрического анода (режим | где катод прямого накала расположен по оси цилиндрического анода (режим | ||
начальных токов на рис. 6, б, или область I на рис. 7, б.). Если радиус | начальных токов на рис. 6, б, или область I на рис. 7, б.). Если радиус | ||
Строка 29: | Строка 30: | ||
из соотношения $\frac{mV_{r0}^{2}}{2}=-eU_{a}$. | из соотношения $\frac{mV_{r0}^{2}}{2}=-eU_{a}$. | ||
- | После интегрирования по $V_{z}$ и углу $\alpha$ получим, | + | После интегрирования по $V_{z}$ и углу $\alpha$ получим, |
- | диода прямо пропорционален интегралу | + | |
$$ | $$ | ||
- | I\propto\int_{V_{r0}}^{\infty}e^{\frac{m(V_{z}^{2}+V_{r}^{2})}{2kT}}V_{r}^{2}dV_{r}. | + | I\sim\int_{V_{r0}}^{\infty}e^{\frac{m(V_{z}^{2}+V_{r}^{2})}{2kT}}V_{r}^{2}dV_{r}. |
$$ | $$ | ||
- | Произведя замену переменных $y=\sqrt{\frac{mV_{r}^{2}}{2kT}}$ и проинтегрировав | + | {{ : |
по частям, | по частям, | ||
в режиме задерживающего потенциала (область I на рис. 7, б) | в режиме задерживающего потенциала (область I на рис. 7, б) | ||
$$ | $$ | ||
- | I=I_{0}F(\frac{-eU_{a}}{kT})\equiv2C\int_{\eta}^{\infty}y^{2}e^{-y^{2}}dy=C\left[\eta e^{-\eta^{2}}+\int_{\eta}^{\infty}e^{-y^{2}}dy\right], | + | \text{ (*) } \ \ I=I_{0}F(\frac{-eU_{a}}{kT})\equiv2C\int_{\eta}^{\infty}y^{2}e^{-y^{2}}dy=C\left[\eta e^{-\eta^{2}}+\int_{\eta}^{\infty}e^{-y^{2}}dy\right], |
$$ | $$ | ||
где $\eta=\sqrt{\frac{-eU_{a}}{kT}}$. Константу $C$ можно найти | где $\eta=\sqrt{\frac{-eU_{a}}{kT}}$. Константу $C$ можно найти | ||
Строка 48: | Строка 48: | ||
$$ | $$ | ||
+ | Интеграл $\text{erfc} (\eta) = 1-\text{erf} (\eta)=\frac 2{\sqrt{\pi}}\int_{\eta}^{\infty}e^{-y^{2}}dy$ --- [[https:// | ||
+ | / | ||
- | График зависимости $\frac{I}{I_{0}}=F(\frac{-eU_{a}}{kT})$ приведен | + | Отметим сразу, что эта формула может применяться и в области I' рис. 7, б, где в качестве запирающего потенциала выступает минимальный потенциала пространства $\varphi_{m}$, |
- | в прил. 2. | + | подставить в формулу (*) вместо $U_{a}$. |
- | + | ||
- | Отметим сразу, что эта формула может применяться и в области I' рис. | + | |
- | 7, б, где в качестве запирающего потенциала выступает минимальный | + | |
- | потенциала пространства $\varphi_{m}$, | + | |
- | подставить в формулу (\ref{eq:8}) вместо $U_{a}$. | + | |
+ | Назад к теме [[обработка_вах|Общие практические рекомендации по обработке ВАХ при выполнении работ]] или далее к [[lab2: | ||